Установка засветки «УЗР-002» предназначена для засветки фоторезистивного слоя подложки при проведения фотолитографических процессов изготовления ИС.
Основные технические параметры установки засветки «УЗР-002»:
| Габариты (Ш*Г*В) Вес | 400x550x650 мм не более 30 кг. |
| Питание | 220В, 50Гц |
| Режим работы осветителя | По выбору: С воздушным охлаждением: 0…19,9 сек. с шагом 0.1сек. С водяным охлаждением: 0…999,9 сек. с шагом 0.1сек. С водяным охлаждением по замкнутому циклу: 0…999,9 сек. с шагом 0.1сек. |
| Рабочее поле засветки | По выбору: Диаметр поля 60 мм. Диаметр поля 76 мм. Диаметр поля 100 мм. Диаметр поля 150 мм. |
| Рабочий стол | По выбору: Без рабочего столика. С рабочим столиком под подложки произвольной фомы. С рабочим столиком диаметром 60мм. С рабочим столиком диаметром 76мм. С рабочим столиком диаметром 100мм. С рабочим столиком диаметром 150мм. |
| Длина волны источника УФ излучения | По выбору: 365нм. 400нм. 435нм |
Скачать краткое описание в формате .pdf Вы можете по ссылке:
